| 适用尺寸： | 破片 ~ 6"Wafer基材。 |
|---|---|
| 外观材质： | PP 板组合焊接而成，可以耐酸碱侵蚀。 |
| 吸盘为分离式 | |
| 作程序： | 感光液涂布段控制转速第二段控制转速 |
| 操作盆罩： | SUS制，圆盆型设计。 |
| 入料方式： | 手动给料，中间开孔并加遮盖 |
| 旋转马达： | DC 马达 |
| 吸盘规格： | 一组铝制吸盘精密研模阳极保护。 |
| 转速： | 300 ~ 8000 rpm±10rpm。 |
| 回转时间设定: | 0.1- 999 sec (LED 直接显示) 可设定秒及分之切换 |
针对不同类型的光阻剂，提高均匀、精确和重复性高的涂胶结果。
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适用尺寸：破片~6"Wafer基材
| 适用尺寸： | 破片 ~ 6"Wafer基材。 |
|---|---|
| 外观材质： | PP 板组合焊接而成，可以耐酸碱侵蚀。 |
| 吸盘为分离式 | |
| 作程序： | 感光液涂布段控制转速第二段控制转速 |
| 操作盆罩： | SUS制，圆盆型设计。 |
| 入料方式： | 手动给料，中间开孔并加遮盖 |
| 旋转马达： | DC 马达 |
| 吸盘规格： | 一组铝制吸盘精密研模阳极保护。 |
| 转速： | 300 ~ 8000 rpm±10rpm。 |
| 回转时间设定: | 0.1- 999 sec (LED 直接显示) 可设定秒及分之切换 |
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