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使用等离子清洗机进行清洗可以达到非常精细的清洗效果，广泛应用于很多行业进行表面处理，效果良好，与普通清洗设备相比，使用效果更好，安全性能高，具有特殊的可靠性和安全性。因为等离子清洗机清洗原理有很多优点...

光刻胶是一大类具有光敏化学作用（或对电子能量敏感）的高分子聚合物资料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶应用范围：普遍应用于集成电路，封装，微机电系统，光电子器件光子器件，平板显现器，太阳能...

等离子去胶机停止去胶操作非常的简单，并且效率高，去胶后的外表洁净光亮、没有任何的划痕、本钱低、环保。电介质等离子体去胶机在停止刻蚀时，普通会被应用在电容耦合等离子体平行板反响器上。在平行板反响器中，反...

多功用涂布机采用逗号刮刀和网纹两种涂布功用，逗号刮刀涂布针对胶带、不干胶、电工维护膜等涂布，网纹涂布针对硅油、PE维护膜涂布，普遍适用于消费胶带、不干胶、电工维护膜、PE维护膜、离型纸、离型膜等各种涂...

匀胶机有很多种称谓，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，应...

匀胶进程介绍：一个典型的匀胶进程包含滴胶，高速旋转以及枯燥（溶剂蒸发）几个步骤。滴胶这一步把光刻胶滴注到基片外表上，高速旋转把光刻胶铺展到基片上构成簿层，枯燥这一步除去胶层中多余的溶剂。两种常用的滴胶...

有些对工艺不熟悉的业者，很简单将刻蚀机与光刻机混淆。事实上，这两款设备的工序和作用不同。业界有个简单的比喻：如果把芯片比作一幅平面雕琢作品，那么光刻机是打草稿的画笔，刻蚀机是雕琢刀，堆积的薄膜则是用来...

涂布机需要将胶或许油墨类物质均匀粘连在铝箔、塑料薄膜或许布料纺织品表面，对涂布工艺要求比较高，不只要求涂布高度均匀而且要可以完成高速不停机换卷以提高出产功率。方案优点由变频器完成各级张力操控，使用张力...

旋涂机"是一种使用旋转离心力的涂布设备，也被称为"旋转涂布机".关于平滑的被涂物（工件），能够形成薄且均匀的涂层。旋涂机的用途非常广泛，代表性用途包含半导体晶圆的外表处理、光阻涂布等流程类工序，以及光...

影响等离子清洗作用的要素有许多，其中最首要的是电源功率频率、作业压强、作业气体种类以及清洗的时刻。等离子清洗的作用会跟着功率的增大而变好；作业压强的挑选要根据清洗的基片进行合理选用，当以物理作用为主时...

刻蚀机的中心在于这个真空的反响腔室。中间的卡盘运用静电吸附着晶圆，上方通入卤族气体、氟基类气体等。在电极片发生的高频电场中，气体分子会被电离，发生带负电荷的电子和带正电荷的离子。这团混合物被称为物质在...

匀胶机又称旋涂机、甩胶机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、真空镀膜机，其整体由在国际上SOL-GEI技能抢先的技能公司（CHEMATTECHNOLOGY,INC）规划完结。其主要要害元...

等离子刻蚀机，又名等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子外表处理仪、等离子清洗体系等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中常见的一种方式，其原理是暴露在电子区域的气体构成等离子体。由此发生的电离气...

光刻机（MaskAligner）又名：掩模对准曝光机，曝光体系，光刻体系等，是制造芯片的核心装备。它采用相似照片冲印的技术，把掩膜版上的精密图形经过光线的曝光印制到硅片上。使用模版去除晶圆外表的保护膜...

在等离子体中，非热力学平衡态的电子能量较高，会破坏材料表层分子的化学键。在合适的工艺条件下，用等离子体表面处理机清洗表面的污渍，在改善表面性能的同时，O2加入不同的官能团，使表面层由非极性变为对应的正...

晶圆加工包括氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化等十几道工序。其中，三个关键的主要设备是光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备，占前者设备的近70%。刻蚀机工艺顺序是在涂覆和光刻之后...

刻蚀机主要用于航空、机械、标牌行业。能在各种金属和金属制品表面蚀刻出图案、花纹和几何形状，并能精确镂空。它还可以蚀刻不锈钢和切割薄板。尤其在半导体制造中，蚀刻是的技术。光刻机和刻蚀机的区别主要表现在三...

蚀刻是指曝光制版、显影后对被蚀刻区域的保护性触摸，蚀刻时与化学溶液的接触，以达到溶解腐蚀、形成凹凸或镂空成型的效果。较早可用于制作铜板、锌板等印刷凹凸版。刻蚀机可分为化学刻蚀机和电解刻蚀机。其基本原理...

，等离子清洗机采用高精密的数控加工技术，具备高精密的全自动清洗机械装置，時间控制度高;等离子体的恰当清理不会对其表层造成损害，产品的工艺性能获得确保;它是一种绿色环保的清洗加工工艺，不会造成环境污染，...

，芯片的原料是沙子，但是从沙子到芯片，中间有N道工序，需要N种设备和spire技术。在这些器件中，光刻机和刻蚀机是较重要的。根据机构的数据，光刻机的成本约占24%，而刻蚀机的成本约占20%，这两种设备...