从半导体制造到实现可穿戴技术所需的柔性电子产品，在任何需要用到导电薄膜的行业中，对方块电阻的测量与监控都至关重要。KLA Filmetrics R50系列四探针电阻测试仪拥有KLA方阻测量技术超过45年的创新积淀。自 1975 年推出电阻率计以来，KLA品牌已革新了导电层的方块电阻和厚度测量技术。R50可对金属层厚度、薄膜电阻、薄膜电阻率、薄膜电导和薄膜电导率进行测绘。R54是方块电阻测量的新一代升级款，它在保持 R50相同性能情况下提供遮光环境，能够支持半导体和化合物半导体应用。
KLA Filmetrics R50系列四探针电阻测试仪结合了KLA公司45年来在方块电阻测量领域以及Filmetrics团队20年来在桌面式仪器和用户界面方面的技术。
对于较薄的金属和离子注入层，建议采用接触式四探针(4PP)测量方法，对于较厚的金属层和柔性或软性的导电表面，建议采用非接触式涡流(EC)测量方法。我们的技术能够满足各种测量需求，包括但不限于以下:
金属薄膜及背面工艺层厚度测量
衬底电阻率
方块电阻
薄膜厚度或电阻率
薄层和体材料的导电率
经过优化的Filmetrics R50能够支持各种样品的测量需求，可以使用矩形、线性、极坐标和自定义配置等采样点排列方式进行测绘。
KLA Instruments™ R54系列在安装不透光外壳的情况下，能够提供R50所具有的测量性能，并新增了X-Y-θ全自动载台，用于半导体和化合物半导体的200mm或300mm晶圆检测。
