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LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底，为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学（如中子散射）、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要，基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄，以验证准确的轮廓。
表中显示的维度表示目标值。周期精度优于0.5%，槽深、线宽、间距与目标值相差15%。文中给出了扫描电镜图。如果需要更确的尺寸信息，LightSmyth可以提供您订购的特定纳米的扫描电镜，作为可选服务。
技术参数
描述
| 数据
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基材宽度高度误差
| 标准公差±0.2 mm
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净孔径（CA）
| 距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）
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基底厚度
| 0.675 ± 0.050 mm
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CA的表面质量
| P／N以“p"结尾：划痕/挖：最达划痕宽度，最达直径。可提供高达20/10的规格
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CA的表面质量
| P/N以“-S"结尾：由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状
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CA外表面质量
| 无要求
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Material材料
| 单晶硅，反应离子刻蚀
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Linear Nanostamps (line+space)
型号
| 间隔(nm)
| 槽深 (nm)
| 占空比
| 线宽 (nm)
| 尺寸 (mm)
| SEM link1
| Top down
|
SNS-C72-1212-50-P
|
| 50
| 50%
| 69.5
| 12.5×12.5×0.7
| X-sec
| Top down
|
SNS-C72-2525-50-P
|
| 50
| 50%
| 69.5
| 25×25×0.7 5
| X-sec
| Top down
|
SNS-C36-1212-110-P
| 278
| 110
| 50%
|
| 12.5×12.5×0.7
| X-sec
| Top down
|
SNS-C24-1212-110-P
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