GEMStar XT系列台式原子层沉积ALD系统，在小巧的机身（82 x 64 x 31 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可多容纳9片8英寸基片同时沉积。全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅可以在8英寸基体上实现膜厚均匀性优于99%，而且更适合对粉体、纳米薄膜、超晶格薄膜、纳米颗粒、复杂3D微纳结构进行均匀沉积，还可实现对高达1500：1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。