OTL-PECVD-1200 PECVD系统详细介绍：
OTL-PECVD-1200PECVD系统，由OTL1200真空管式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
OTL-PECVD-1200 PECVD系统以优质电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，过零触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能、等优点。
开盖保护系统：该炉安装有行程开关，当炉盖打开时会自动切断电源，有效地保证使用者的安全。
1、瑞典Kanthal A1 电阻丝
(1)、表面温度高可达1420℃
(2)、表面为不锈钢色（非常亮、客户识别时要注意）、不会生锈，使用时间再长都不会掉渣。
(3)、Kanthal电阻丝资料下载
(4)、Kanthal电阻丝网站：
(5)、电阻均衡、温场均衡性好
2、安装有空气开关和漏电保护器：
当电路过流或漏电时，空开会自动断开。
OTL-PECVD-1200 PECVD系统技术参数：
| 型号 | 功率 | 炉管尺寸mm | 外形尺寸mm | 电源电压 |
| OTL-PECVD-1200-25 | 1.5KW | φ25*800 | 800*290*415 | 220V |
| OTL-PECVD-1200-50 | 1.5KW | φ50*800 | 800*290*415 | 220V |
3、可以与电脑连接
该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出
4、炉膛
1、真空吸滤成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛。
2、采用成型。
3、炉膛里电阻丝的间距和节距全部按日本的热工技术布置、经过热工软件模拟温场
4、采用4周加热，温场更加均衡
5、可选UL认证电气板 （全部通过UL认证的进口电器）
6、认证
7、法兰
(1)、表面温度高可达1420℃(2)、表面为不锈钢色（非常亮、客户识别时要注意）、不会生锈，使用时间再长都不会掉渣。(3)、Kanthal电阻丝资料下载(4)、Kanthal电阻丝网站：(5)、电阻均衡、温场均衡性好
2、安装有空气开关和漏电保护器：当电路过流或漏电时，空开会自动断开。OTL-PECVD-1200 PECVD系统技术参数：
4、炉膛
1、真空吸滤成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛。2、采用成型。3、炉膛里电阻丝的间距和节距全部按日本的热工技术布置、经过热工软件模拟温场4、采用4周加热，温场更加均衡5、可选UL认证电气板 （全部通过UL认证的进口电器）6、认证
7、法兰
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