分子束漏勺
美国Beam Dynamics用电铸加工技术制造出的高质量和高精密分子束漏勺。该分子束漏勺特别适用于产生准直的脉冲或者连续的超声速分子束，以及对气流取样。
Beam Dynamics的分子束漏勺特点是非常薄，表面光洁度高，且孔口边缘十分锐利。的减小了对分子束的干扰。
干扰来源于两方面：
• 分子束可能被漏勺外表面反射回来的分子分散。为了减少这种效应，需使漏勺的外部角度变小。
• 分子束可能被漏勺内表面由于碰撞产生的气体分散。为了减少这种效应，需使漏勺的内部角度变大。
我们的曲线型设计，统一了以上两个相互冲突的要求。孔口处的小角度减少了来自反射分子的干扰，而底部角度较大的扩口形状将漏斗内多余的气体积聚最小化。
技术参数：
应用：1.产生准直的脉冲或者连续的超声速分子束；
2.对气流取样；
尺寸 | Model 1 | Model 2 |
A.到顶部高度 | (") | (") |
B.底座直径 | (") | (") |
C.边缘平坦部分的宽度（大约） | (") | (") |
D.孔口直径 | to (" to 0") | to (" to ") |
（以为增量，公差为）可制作大孔和小孔。 | ||
孔口总夹角 | 25° 内- 30° 外 | 25° 内- 30° 外 |
底部总夹角 | 70° | 70° |
材料 | 镍或铜 | 镍或铜 |
孔口边缘厚度 | 10µm值 | 10µm值 |
壁厚和边缘厚度 | 50 to 80 µm典型值 | 50 to 80 µm典型值 |
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