产品简介
产品名称:SWC-4000兆声晶圆清洗机产品特点:SWC-4000兆声晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗
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产品名称:SWC-4000兆声晶圆清洗机 产品特点:SWC-4000兆声晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。 SWC-4000兆声晶圆清洗机应用: ·带图案或不带图案的掩模版和晶圆片 ·Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗 ·CMP处理后的晶圆片清洗 ·晶圆框架上的切粒芯片清洗 ·等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗 ·带保护膜的分划版清洗 ·掩模版空白部位或接触部位清洗 ·X射线及极紫外掩模版清洗 ·光学镜头清洗 ·ITO涂覆的显示面板清洗 ·兆声辅助的剥离工艺 特点: ·支持12"直径的圆片或9"x9"方片 ·独立系统 ·无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干 ·微处理机自动控制 ·化学试剂滴胶单元 ·溶剂与酸分离排废 ·热氮 ·30"D x 26"W 的占地面积 选配项: ·掩模板或晶圆片夹具 ·臭氧清洗 ·PVA软毛刷清洗 ·高压DI清洗 ·氮气离子发生器 |
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