纳米压印光刻（NIL）是区别于传统光学光刻的微纳图形制备工艺，依靠模板机械转印结合紫外固化成型，突破光学衍射极限，能够高效复刻纳米级微结构，具备分辨率高、图形保真度好、成本可控的特点，是AR/VR光波导、晶圆级光学、超表面、DOE衍射光学元件、微流控芯片、纳米光子器件研发与量产的核心工艺装备。岱美仪器技术服务（上海）有限公司，面向国内半导体、光学、高校科研院所、光电企业提供EVG全系列
纳米压印设备方案，覆盖研发样机、中试线到大批量产平台，配套工艺开发、装机调试、人员培训、售后维保等全链条技术支撑服务。
岱美仪器主推的EVG纳米压印产品线，依托EVG成熟的SmartNIL®紫外压印技术，形成梯度化机型布局，适配不同基板尺寸与产能需求。EVG610为紧凑型研发机型，灵活适配实验室工艺摸索，支持真空压印、软压印、硬压印多种模式，可选背面对准功能，适合小批量样品验证与新材料工艺探索。EVG720自动化SmartNIL系统，可处理75–150mm基板，压印分辨率可达40nm，集成压印、UV固化、脱模与软印章制备流程，适合衍射光学、生物微流控器件的中小批量试制。EVG770 NT分步重复纳米压印光刻机，采用步进式压印方案，基板最大支持300mm，分步压印区域50×50mm，可完成母版制备与大面积基板图案直写，满足复杂大视场微结构加工需求。EVG7300多功能UV纳米压印系统，融合SmartNIL、晶圆级光学WLO、UV堆叠三大工艺能力，最高支持300mm晶圆，套刻对准精度可达300nm以内，面向超表面、AR光波导、3D传感光学元件等高精尖量产场景，是目前晶圆级光学规模化生产的主流平台之一。
整套UV纳米压印工艺在常温低压环境下完成，规避热压印带来的热膨胀形变问题，压印胶依靠紫外LED光源快速交联固化，图形复制均匀性稳定，兼容硬质硅基晶圆、石英、玻璃以及柔性高分子基底。设备模块化程度高，可按需选配自动上下料、迷你环境温控、高精度对准、在线工艺监测等模块，兼顾研发阶段工艺迭代与产线稳定量产，大幅降低微纳光学器件的量产门槛。
岱美仪器深耕微纳加工设备服务多年，结合国内客户工艺痛点，可根据样品尺寸、特征线宽、基底材质、套刻需求、产能目标定制匹配方案，同步配套模板工艺咨询、压印材料选型、工艺参数优化等技术支持，助力光电、半导体企业快速落地纳米压印产线，推进下一代微纳光学器件的产业化进程。
