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NDK大日本科研实验・研究用曝光装置

2026年10月09日 16:56:00      来源:美萨科技(苏州)有限公司 >> 进入该公司展台      阅读量:1

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NDK大日本科研实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。

NDK大日本科研实验・研究用曝光装置主要特长

  • 对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。
  • 可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。
  • 对应*大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有*佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W、1kW、2kW、3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。
实验・研究用曝光装置

NDK大日本科研实验・研究用曝光装置主要规格

MA-1200、MA-1300、MA-1400

 MA-1200MA-1300MA-1400
基板尺寸*大 200 x 200mm ø4″ ~ ø6″*大 ø300*大 400 x 400mm
光源超高压水银灯 :500W or 1kW超高压水银灯 :1kW超高压水银灯 :2kW or 3.5kW
外观尺寸及重量本体尺寸W1240 x D1100 x H1725 mmW1675 x D1400 x H1883 mmW1440 x D1590 x H1882 mm
本体重量400kg700kg(包含无尘机房)400kg(包含无尘机房)
光源重量-250kg250kg
选购项无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽



NDK大日本科研实验・研究用曝光装置主要特长

  • 非常适用于实验・研发之用途。
  • 紧凑型设计(600×600mm),可在桌面上安装使用。
  • 搭载UV LED爆光灯房标准(有效曝光范围φ4″)。
  • 接触式曝光模式(可支持其他的曝光模式,为选购项)。
  • 手动操作,价格公道合理。
Desktop Mask Aligner

NDK大日本科研实验・研究用曝光装置主要规格

DA-1000
Wafer SizeØ2″ , Ø3″ and max. Ø4″
Mask Size5″ x 5″
Alignment Scope8 times
Lamp HouseUVLED (365 nm or 405 nm)
Illumination IntensityMax. 14 mW /㎠ (365 nm) or Max. 20 mW /㎠ (405 nm)

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