飞秒激光直写属于无掩膜光刻加工的一类技术手段，依靠飞秒激光作为加工光源，直接在涂覆光刻胶体的各类基底之上完成微结构图案的曝光转移，整套加工流程不需要制作实体掩膜版，修改加工图形仅需要在软件端调整对应程序即可完成，这给小批量研发、迭代测试的科研场景带来较多便利。杭州玉之泉精密仪器有限公司坐落于杭州，推出
飞秒激光直写光刻相关设备，面向衍射光学元件、微机电系统等方向提供硬件支撑，同时配套飞秒激光直写工作站、直写光刻加工器件等相关配套产品，满足不同实验室与研发项目的使用需求。
飞秒激光直写的加工过程依靠聚焦后的飞秒脉冲激光与光刻材料发生光化学反应实现图形固化，激光光束按照预设路径完成扫描运动，在材料内部或者表面逐点完成结构的构建。和常规紫外曝光方式不同，飞秒激光直写可以作用于材料内部，不局限于表层二维图形，能够适配部分二维以及二点五维的复杂微结构成型工作。在实际实验场景当中，经常会遇到衍射光学元件开发，微机电系统原型试制，光纤相关微纳结构加工等需求，飞秒激光直写可以适配这类多变的图形设计，不用为每一款新图样重新生产掩膜，缩短样品迭代的周期。
在设备实际使用环节，实验室环境条件会直接影响飞秒激光直写最终的加工结果。设备放置区域需要做好隔振处理，外界振动会造成激光焦点发生偏移，使得加工线条出现抖动、边缘变形等问题。环境温度的波动也会带来光学镜片、位移台部件的热胀冷缩，进而改变光路位置与运动定位，所以需要维持环境温度保持相对稳定，搭配黄光照明环境，避免光刻胶被环境光线提前发生感光反应，影响最终成型效果。
日常使用飞秒激光直写设备，需要做好基础维护工作。每次上机加工之前，操作人员需要检查光学窗口表面，确认没有光刻胶挥发凝结的污渍，污渍附着会改变光束质量，造成局部曝光异常。位移台运动轨道需要保持洁净，避免碎屑异物阻碍运动行程。激光器部分要按照厂家说明完成定期状态检查，记录激光功率变化情况。加工完成之后，及时清理样品台上面残留的光刻胶，避免干涸之后附着在台面，污染后续加工的基底。
从材料适配角度来看，飞秒激光直写可以兼容多种不同类型的基底，包含石英玻璃、硅片、蓝宝石等，不同基底表面状态会影响光刻胶附着效果，加工前基底清洗工序不可省略。科研人员在开展新项目的时候，需要结合基底类型、光刻胶种类，调试扫描速度、激光输出功率等工艺条件，通过多组对比测试确定适配本项目的工艺条件，保障飞秒激光直写加工出来的微结构达到项目预期。整套设备既可以用于高校院所的基础科研实验，也可以承接相关器件原型开发，服务微光学、光通信等多个方向的项目开展。
