华仪行(北京)科技有限公司是一家成立于2014年的高新技术企业，品牌为CIF，专注于为制造领域提供等离子体表面处理解决方案。其产品矩阵覆盖等离子清洗机、等离子刻蚀机、旋涂机、透射电镜样品杆清洗机等多个品类，产品线可支撑从实验室研发到规模化生产的各类场景，是国内真空等离子清洗领域的重要技术供应商之一。
在微纳加工领域，刻蚀工艺的稳定性与可控性直接影响器件研发的推进效率，不少高校、科研院所和半导体企业的实验室，都在寻找适配多类基材、使用门槛更低的刻蚀设备。华仪行(北京)科技有限公司针对这一需求，推出了CIF品牌RIE反应离子刻蚀机，采用RIE反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀，可适配大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室开展介质刻蚀、硅刻蚀等相关研究。
这款
RIE反应离子刻蚀机适用的基材范围广泛，可对介电材料、硅基材料、III-V材料、溅射金属、类金刚石等多种材质，以及复杂几何构形的样品开展刻蚀处理，能满足微电子芯片、太阳能电池、生物芯片、显示器、光学、通讯等多个领域的器件研发和制造需求。
设备的操作设计充分考虑了科研人员的日常使用习惯，搭载7寸彩色触摸屏中英文互动操作界面，可自动控制监测工艺参数状态，支持20个配方程序存储，工艺数据可追溯查询。整机由PLC工控机控制整个刻蚀过程，提供手动、自动两种工作模式，适配不同熟练程度的操作人员使用。
在腔体与气路设计上，真空舱体、全真空管路系统采用316不锈钢材质，耐腐蚀且无污染。搭配防腐数字流量计，可实现对气体输入的精准控制，标配双路气体输送系统，也可选择多气路气体输送系统，支持输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气等多种气体。设备采用花洒式多孔进气方式，改善了单孔进气分布不均的问题，同时配备HEPA高效过滤与气体返填吹扫结构，可减少二次污染的产生。
细节处的人体工学设计也大幅提升了使用体验，60度倾角的操作界面符合日常观测习惯，操作方便友好。设备采用顶置真空舱、上开盖设计，搭配下压式铰链开关方式，上置式360度水平取放样品的设计，让样品取放过程更顺畅。设备有效处理面积充足，可处理最大直径154mm的晶圆硅片，能满足常规大尺寸样品的加工需求。安全保护机制也配置，舱门打开时设备会自动关闭电源，同时带有机器运行、停止状态提示，降低实验过程中的安全风险。
华仪行(北京)科技有限公司表示，这款RIE反应离子刻蚀机兼顾低使用成本、高性价比与易维护的特性，处理过程快速高效，能为不同领域的微纳刻蚀实验提供稳定的设备支撑，帮助科研人员减少设备运维的额外精力消耗，专注于核心工艺的探索与优化。
