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电子束蒸发镀膜系统产品特点

2026年07月30日 10:22:48      来源:未来仪器 >> 进入该公司展台      阅读量:8

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   DE400DHL电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源,可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料,是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。
  DE400DHL 电子束蒸发镀膜系统详细介绍
  1、核心优势
  - 高真空蒸镀环境
  - 样品可高温加热、低温冷却
  - 高精度镀膜速率与膜厚控制
  - 优质薄膜质量,膜厚均匀性与重复性优异
  2、自动化与选配功能
  - 可选离子束清洗或辅助沉积
  - 可选 RF 等离子体清洗
  - PLC+PC 全自动控制
  - 可选 LOAD LOCK,全自动送样
  3、主要技术指标
  - 膜厚均匀性:优于+/-3%
  - 极限真空度:3E-8 Torr
  - 膜厚分辨率:0.1 A
  - 蒸发速率分辨率:0.01 A/s
  - 基片尺寸:可选:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
  4、材料与工艺能力
  - 可沉积金属、半导体、介质材料
  - 支持单层、多层薄膜制备
  - 支持 LIFT-OFF 工艺蒸镀
  - 支持低维材料制备
  - 多种样品台或客制化样品台,满足特殊工艺薄膜制备
  5、适用场景
  - 研发、中试及量产使用
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