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等离子镀膜设备主要优势体现

2026年03月13日 08:42:16      来源:上海添时科学仪器有限公司 >> 进入该公司展台      阅读量:1

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等离子镀膜设备采用真空蒸发镀膜法,在玻璃外表面涂制一层纳米化学材料,大限度的降低玻璃表面张力,使灰尘与玻璃表面的接触面积减少90%以上。AF镀膜机作用后的外表面具有较强的疏水、抗油污、抗干扰能力;使视屏玻璃面板长期保持着光洁亮丽的效果。

  等离子镀膜设备主要优势体现:

  1、AF喷涂设备采用原装德国进口纳米喷头,喷头采用高低压转换雾化设计,使液态分子极精细,且不影响药水效果。

  2、恒定流量控制系统,保证药水平稳恒定的供流,而非波浪线式供流,解决白雾现象。

  3、控制喷涂药量,提高药水的雾化能力,使膜层与玻璃能均匀的结合,提高产品喷涂的均匀性,增大膜层表面爽滑度。

  4、喷嘴运动速度及输送线速度均可调,大大提高了生产效率,满足各种用户需求。

  5、理论设计产能3000片-4000片/小时。

  6、采用双等离子处理,镀膜前对工件进行清洁处理,降低工件本身附带的杂质,使玻璃表面与膜层发生附和反应,提高膜层结合的牢固度,提升产品的抗老化以及耐摩擦能力,使镀膜品质更高。

  表面清洁:对于C,O脏污(有机物),大气等离子有很强洗净效果(氧化反应)

  表面活性化:等离子分解分子结合材料、形成OH基=活性效果。

  表面粗面化:等离子粒子以NM单位破坏表面=粗面效果。

  特别提示:等离子镀膜设备主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95%N2对真空腔体清洗,可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内。

 

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