用VTC-200对铜箔表面进行涂膜

实验材料：厚度0.5㎜的铜箔、透明无机溶胶，实验样品如图1所示

      铜箔                  无机溶胶

图1 实验所用样品图

材料特性：铜箔质软，容易褶皱；透明无机溶胶具有较大的粘性，不易甩开。

实验目的：在铜箔表面涂覆一层厚度均匀的薄膜

实验设备：VTC-200真空旋转涂膜机，实验所用设备如图2所示：

VTC-200真空旋转涂膜机

图2 实验所用设备图

实验所用设备特点：

VTC-200真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，可利用高速旋转的吸盘使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。该机使用真空吸盘将样品固定在载样盘上，具有两段程序控制速度。首段程序将设备转速设置在较低的范围内，在此转数范围内设置一定的注胶时间对样品进行注胶；第二段程序注胶结束后涂膜机在短时间内提升转数至第二段所设置的转数进行匀胶，在匀胶之前要对匀胶时间进行设置，当匀胶结束后机器自动停止运转，涂膜的整个过程结束。可利用高速旋转的吸盘使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。

设备参数：

  时间设置范围：1s-600s；转速：500rpm-6000rpm；

  可设置两步涂膜程序，转速稳定性为±1%，使涂膜更加均匀。

  SPD1转速：500-6000 rpm有效；T1时间：1--600s有效。

  SPD2转速：500-6000 rpm有效；T2时间：1--600s有效。

  载样盘直径：φ150mm，适用于尺寸6英寸、8英寸样片及其它尺寸样片的涂膜。

实验过程：

首先将5㎜厚的铜箔固定在1㎜厚的方形玻璃片上，然后将固定有铜箔的玻璃片放到吸盘中间的位置，放置玻璃片的时候尽量找好正中心，以免高速旋转的过程中造成飞片。实验过程中为了设备清理方便可在机器腔体内贴附一层塑料薄膜，试验后可直接撕下。放置带有铜箔的玻璃片的设备如图3所示，

图3 放置基片的设备图

放置好试样后对设备进行程序设置，一段：SPD1  500rpm  T1  15s；二段：SPD1  1500rpm  T2  45s。设置好程序后将胶液挤出一定量到基片表面，然后盖好上盖，开启设备对基片进行涂膜。在首段速度时，涂膜机在较低转速下进行匀胶，使胶液在基片表面铺展开；在第二段速度时在较高旋转速度下使基片表面的胶体迅速甩开，将多余的胶液甩倒基片外面，然后在基片表面形成具有一定厚度的薄膜。程序运行结束后，将样品移下并自然干燥，干燥后的试样如图4所示；

图4 干燥后的试样图

  用肉眼可见，薄膜在基片表面均匀分布，若要了解试样的确切厚度，可使用TFMS-IV型高精度反射膜厚仪对试样表面厚度进行测量。