真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
产品特点
采用箱式结构，真空系统后置，便于操作和维修；整机表面平整，方便清洁，特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。
设备真空系统抽速大，具有抽气时间短，真空度高，生产周期短等优点。
采用管状加热器上烘烤，烘烤温度均匀，寿命长，可达到烘烤温度350℃，烘烤均匀性270℃±10℃。
工件转动采用上部中心驱动，轴承带水冷，磁流体密封，转动平稳。
采用石英晶体膜厚控制仪，可实现镀膜过程的自动控制。
采用镀膜控制系统，人机操作界面美观实用，系统稳定，可实现系统的手动、半自动和全自动操作。
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