旋转匀胶机是一种用于工程与技术科学基础学科领域的计量仪器，可以自动定量滴加光刻胶（支持的光刻胶年度在10cp-500cp）,也可以实验手动滴加光刻胶；匀胶的时间可以在0.1s到999s范围内调整且连续；满足旋涂3mm到150mm直径范围的样品；稳定的转速范围可在50转/分到8000转/分，加速范围从50rpm/s到4000rpm/s;膜厚的均匀性在2%（Resist AZ5214E，1um）。
匀胶机有一个或多个滴胶系统，可涂不同品种的光刻胶。滴胶的方式有晶片静止或旋转滴胶。随着晶片尺寸的增大，出现了多点滴胶或胶口移动式滴胶。胶膜厚度一般在500—1000nm，同一晶片和片与片间的误差小于±5nm。滴胶泵有波纹管式和薄膜式两种，并有流量计进行恒量控制。对涂过胶的晶片有上下刮边功能，去掉晶片正反面多余的光刻胶。
烘烤工位，有隧道式远红外加热，微波快速加热以及电阻加热的热板炉等。涂胶后的晶片要按一定的升温速率进行烘干。烘烤过程在密封的炉子中进行，通过抽真空排除挥发出来的有害物质。前烘结束后，将晶片送入收片盒内。
主轴转速的稳定性和重复性是决定胶膜厚度均匀性和一致性的关键，起动加速度的大小是决定是否能将不同粘稠度的光刻胶甩开并使胶均匀的决定因素。
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