2025年11月13日 09:32:19 来源:上海荆和分析仪器有限公司 >> 进入该公司展台 阅读量:12
一、"N" 或 “W”峰出现的原因
1、TCD操作,用N2作载气由于热传导率非线性引起;
2、FID操作时,样品溶剂电离效率低(如CS2),或气流比欠佳时;
3、ECD操作时,由于检测器被污染,溶剂峰或待测组分含量较高,或脉冲电源有毛病。
二、舌头峰(前延峰)出现的原因
1、汽化温度偏低;
2、载气流量小:
3、进样量大,汽化时间长;
4、汽化室被污染,样品有吸附效应;
5、样品在柱头有冷凝或色谱柱被污染;
6、进样技术差(挥发性组分的进样速度太慢);
7、峰前出现了“鬼”峰。
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