在电子工业中，生产集成电路的每一道工序都离不开超纯水，而且对超纯水的要求越来越高，需要量也越来越大。一般对超纯水的水质要求是:电阻率(25℃)灯一18兆欧·里米，0.2微米以上的微粒子数100个/毫升以下，细菌数1一2个/毫升以下，总有机碳1 PPm以下。

　　电子工业中制备超纯水巳有三十多年的历史，以前，一般采用化学凝集一过滤一离子交换的工艺来制取。但流程相当复杂，且树脂再生需耗用大最酸碱，成本较高。采用反渗透就可以简化流程，能制得高纯度的水，且运转费用低。图6.1.3是制备超纯水两种方法的比较。

　　目前，美国电子工业已有90%以上是采用反渗透和离子交换相结合的装置来制取超纯水‘得克萨斯仪表公司在打拉斯工广建成了卷式反渗透装，使用ROG人一4000、4100组件，操作压力600一650磅/英寸，回收率73%一75%，脱盐率96.7%。

　　美国国际商业机械公司在曼纳萨斯广设了中空纤维反渗透装且，日产水且90000加仑。原水经反渗透、离子交换后，细小的微粒子和微生物由最后的过滤器除去。以前使用 0.2微米的微飞，最近由于大规模集成电路的出现，晶格的尺寸只有l一2微米。微位子的大小和数目严重形响产品的合格率。现在一般要求将微拉子的拉径缩小到最小晶格尺寸的十分之一，这样0.2微米的微滤就不能满足上述要求。具有孔径10一100人的超滤可捕捉0.2微米以上的微拉子，改补超纯水的水质，提布集成电络的合格率。现在巳改用超滤作为最后过滤生产超纯水。我国电子工业部也巳将醋酸纤维素超滤膜管式组件作为最后的过滤，成功地制取了超纯水。