一个完整的EDI系统应包括整流器、控制系统、EDI膜堆装置、管道、阀门和再循环泵。所有这些安装在一个支架上面。这些部件和我们在RO系统中 那些部件基本类似，但整流器除外，它通过把一个三相的交流电转变成直流电来为EDI系统提供能量。

  EDI的生产厂家为每个膜提供了一个标准流速。就象RO的设计和建造一样，原始的生产制造商根据特定的应用设计了柔性的膜组。在通常的系统中包括RO和EDI。可以根据增加和减少膜的数量来改变产水量。很多单一膜组的系统设计每分钟5-10加仑的流量。通过增加多个膜组可以增加更多的流量。EDI是一个精处理技术。应用纯净的RO产品水或者渗透水作为给水而进一步纯化。预处理设计要求出水水质严格达到EDI进水水质的要求。

 根据原水水质的不同，可以采用不同的流程来达到进水水质的要求。一般水处理的典型流程是多介质过滤器→活性炭处理→双级RO反渗透→EDI。在高硬度的水处理中，软化被加入到处理的流程中：多介质过滤器→活性炭处理→软化设备→双级RO反渗透设备→EDI。

膜堆制造商
 在系统的设计中，CO²也是一个关键因素。分子的CO²可以通过RO膜给传统后续设计混床或者EDI中的阴离子交换树脂加重阴离子的交换负担。当进入EDI系统的时候，根据在系统中PH分布情况，CO²将以CO3^2-和HCO^3-形式被去除。如果要达到相同质量的水质，应该增加额外电流来克服这些额外的CO²。低PH将增加进水中的CO²，在一些情况下，我们通过加碱来增加PH，把CO²转化成碳酸盐和重碳酸盐有效的增加RO膜的去除率。

多介质过滤器→活性炭处理→阻垢剂/软化过滤器→双级RO→EDI。如果EDI系统进水水质电阻可以达到16M欧姆或者可以提供更好水质的保证，那么为了制取相当纯的水（电阻大于18兆欧姆），精制系统可以采用不可更新的核能级抛光混床。用于精制的混床系统的负载非常小，通常可以运行1-2年，然后重新更换新的再生好的树脂，这样也可以避免化学处理。预处理系统→RO→EDI→一次性混床。混床系统一般需要两列，而EDI系统不需要容余，它可以连续再生，模块化设计、内建容余。--半导体行业用EDI装置，核能极抛光混床高纯水设备，17兆欧高纯水设备，电阻率18兆欧超纯水装置

 EDI在一个设计良好的系统中需要很少的维护。使用的仪表每1-2年需要一次校准。强烈推荐每周要把压力、流量、电流数据做几次（4-7次）记录在案，以便以后用来研究污物和浓缩比例的问题。当预处理工作不正常或者预系统设计的不好时候，浓缩比例和污染会存在。当发现污染的时候，在很多情况下清洗可以恢复膜的性能。制药系统将根据预处理系统的清洗来决定EDI系统的清洗，其清洗的过程和所用的化学物和RO系统基本一样。
  EDI的膜堆的寿命为3-8年甚至更长，膜堆确切的寿命主要取决于水源、预处理系统和维护水平、根本上还是取决于其所使用的阴离子的强度的稳定性，在一个标准的设计中，简单的膜的问题可以通过隔离而解决，这只需要几分钟，甚至不需要停运系统。