薄膜制备小型磁控溅射仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器，用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
薄膜制备小型磁控溅射仪设备由磁控溅射台，制冷装置，涡轮分子泵及气体流量控制仪组成。在溅射真空室中使用二号靶位的射频电源对靶材进行磁控溅射。靶材的上方为基片行走单元，能够实现在不同靶位来回循环运动。可以控制行走单元的转速、时间、靶位来得到更加均匀的薄膜。气体流量控制仪器能够实现对氩气等溅射气体及真空腔内压强的测量。 薄膜制备小型磁控溅射仪自带了基底加热装置，能够支持高到400摄氏度的基底升温，通过加热电源、温度计、电炉丝及温度控制装置实现对基底的准备升温和温度保持。
薄膜制备小型磁控溅射仪的磁控溅射技术不仅是科学研究和电子制造中常用的薄膜制备工艺技术，经过多年的不断*和发展，该技术也已经成为重要的工业化大面积真空镀膜技术之一，广泛应用于玻璃、汽车、医疗卫生、电子工业等工业和民生领域。
例如，采用薄膜制备小型磁控溅射仪磁控溅射工艺生产镀膜玻璃，其膜层可以由多层金属或金属氧化物祖成，允许任意调节能量过率、反射率，具有良好的美观效果，被越来越多的被应用于现代建筑领域。
