接触式光刻机是一种用于微电子制造过程中图形转移的设备，主要用于半导体芯片的生产。它采用接触式曝光技术，通过将光掩模（mask）与硅片表面直接接触，使光刻胶上形成微小的图案结构。接触式光刻机是早期光刻技术中的一种，曾在集成电路的制造中广泛应用，尤其在半导体工艺中，用于形成电路图案和结构。
1.光掩模和硅片接触：接触式光刻机的关键是光掩模（mask）和硅片（wafer）之间的接触。光掩模通常是由透明材料制成，上面有微小的电路图案。光刻机将这张掩模与光刻胶涂覆在硅片表面接触，使得光通过掩模上的透明区域照射到光刻胶上。
2.曝光：当光源（通常为紫外光）照射到光刻胶上时，光刻胶受光照射的区域发生化学反应，改变其可溶性。不同区域的光刻胶表现出不同的溶解性，形成图案。这些图案将被转移到硅片上，形成微小的电路结构。
3.开发：曝光后，通过化学开发过程去除未反应的光刻胶，留下已曝光区域的光刻胶图案。这些图案随后可以用于后续的蚀刻和沉积工艺。
4.接触式与投影式区别：
（1）接触式光刻：掩模直接接触光刻胶表面，曝光过程中光从掩模透过，直接形成图案。由于掩模和硅片接触，可能出现接触印（2）刷的缺陷，例如模糊或图案转移不完整。
（3）投影式光刻：掩模与硅片不直接接触，而是通过投影系统将光通过掩模聚焦到光刻胶上，这样可以避免接触带来的问题。
优点：
1.简单高效：接触式光刻机结构简单、工艺流程直观，适合小批量生产。
2.成本较低：与投影光刻机相比，接触式光刻机的设备成本较低，因此在早期的半导体制造中较为常见。
3.较为精确：在一些低分辨率和大尺寸芯片生产中，接触式光刻机能够提供较好的图案转移效果。
