离子束溅射的优点及缺陷

离子束溅射的优点：

1.离子束溅膜是一种动量交换，它使固体物质内的原子.分子进入气相，溅射平均能量为10eV。经过真空蒸发处理后，颗粒体积增加了100倍左右，在沉积到基体表面之后，仍然有足够的动能向基体表面迁移，使膜与基体结合牢固。

2.任何材料都可以溅射涂层，材料的溅射性差异小于其蒸发特性，甚至高熔点材料都可以溅射，对于合金、靶材化合物的材料容易形成与靶材组分比例相同的薄膜，所以离子束溅膜的应用非常广泛。

3.一般来说，溅射膜中的入射离子是通过气体放电得到，在10-2Pa~10Pa之间，溅射离子往往与真空腔室内的气体分子发生碰撞，造成溅射离子的随机偏离。一般说来，溅射是在较大的靶面区域出，所以比真空镀更能得到厚度均匀的薄膜层，对于有勾槽.台阶等的镀件，可用阴极效应来降低膜厚的差值。但是，高压力时，溅射会使膜中含气分子增多。

4.离子束可以精确聚焦和扫描，可以改变靶与基质材料，并且可以独立地控制离子束的能量和电流，而不影响离子束特性。等离子束溅射法可以精确控制，束流的大小与流场方向有关，溅射出的原子能直接沉积薄膜，因此，离子束溅射法可以作为一种研究薄膜的方法。

离子束溅射缺陷。

 离子束溅射法的主要缺点是靶区过小，沉积速率一般较低。此外，溅射法不适用于制备厚度均匀的大面积薄膜。飞溅装置复杂，设备运行费用高。