真空在涂装工艺中的应用
就镀膜工艺而言，真空的应用体现在哪些方面？
在许多镀膜工艺中（例如：金属、塑料或玻璃以蒸汽形态沉积），真空扮演着决定性的作用。在很多情况下，离开真空，就无法实现这些工艺。一般在工艺开始之初，对腔室施加中度或高度真空，以便真空排气，再抽除反应气体或者气化固体原材料。

这些镀膜工艺都有一个共同的要求：腔室必须保持符合镀膜工艺要求的中度或高度真空。这些镀膜工艺有助于改变材料的表面特征，例如硬度或耐腐蚀性。此外，真空镀膜也可以改善材料的附着性或湿润性，或者让材料表面保持疏水性或亲水性。

意大利DVP真空蹦的哪些真空解决方案尤其适合镀膜工艺？
我们提供大量不同的镀膜工艺真空解决方案，除了独立式真空泵，也供应全套真空系统。L-C单级旋片真空泵适用于镀膜工艺，实践证明，DVP旋片真空泵结合罗茨真空泵是中度真空镀膜应用的标准解决方案。赫哲真空还可提供型号的变距螺杆真空泵和罗茨真空泵，使真空系统的设计达到镀膜工艺的要求。如果需要高度真空，我们有涡轮分子真空泵和扩散真空泵，将这类泵与前级泵组合即可满足镀膜工艺要求。

赫哲真空在镀膜工艺中的应用范例：

物**相沉积（PVD）
化学气相沉积（CVD )
等离子增强沉积
金属镀膜