CIF-Spin Coater匀胶机进行滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心，滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高和/或基片比较大，往往需要滴较多的胶，以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速(通常在500转/分左右)旋转的同时进行滴胶，“动态”的作用是让光刻胶容易在基片上铺展开，减少光刻胶的浪费，采用动态滴胶不需要很多光刻胶就能润湿(铺展覆盖)整个基片表面。尤其是当光刻胶或基片本身润湿性不好的情况下，动态滴胶尤其适用，不会产生针孔。
1.采用闭环控制伺服电机，数字式增速信号反馈，速匀准确，寿命长，保证匀胶均匀。
2.5寸全彩触摸屏，智能程序化可编程操控显示，标配10个匀胶梯度阶段(速度和时间梯度设置)，可选配10个可编程程序，每个程序下可设置10个匀胶梯度阶段，多100个阶段。
3.内置水平校准装置，大限度的保证旋涂均匀，可对大小不同规格的基片进行旋涂。
4、多重安全保护
电磁安全开关，盖子打开卡盘停止，保证安全；盖子自锁功能，防止飞片盖弹开伤人；双重安全上盖，聚四氟嵌镶钢化玻璃，避免单一玻璃或者亚克力上盖飞片伤人，大限度保证实验人员安全。
5.一机两用，根据不同样品可选真空吸盘和非真空卡盘两种旋涂模式。
6.不锈钢喷塑涂层旋涂壳体，PTFE旋涂腔体，聚丙烯(NPP-H)旋涂托盘，PTFE嵌镶钢化玻璃上盖，耐酸碱防腐蚀，保证仪器在苛刻条件下仍能正常运行。
7.匀胶机适用硅片、玻璃、石英、金属、GaAs，GaN，InP 等多种材料。
