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硅片抛光机的两种抛光方式分析

2023年03月24日 10:41:03      来源:深圳市金实力平面精磨科技实业有限公司 >> 进入该公司展台      阅读量:8

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硅片抛光机如何解决这个矛盾的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到最小。
硅片抛光机不是碾除整体的糠层,是通过碾除细微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉细粒,抛光机抛光和碾白从工作方面比较存在着很大的差别,抛光机抛光压力很低,抛光机抛光米粒的时候流体密度很小,抛光时米粒离开铁辊的速度很快,而且抛光机单位产量抛光运动面积很大。


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