一、电阻蒸发镀：电阻蒸发源用于蒸发低熔点材料，如金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等。电阻蒸发源一般采用钨、钼、钽制作。

　　二、电子束蒸发镀：利用电子束加热使膜材汽化蒸发后，凝结在基片表面成膜是真空蒸镀技术中一种重要的加热方法。

这种装置的种类很多。随着薄膜技术的广泛应用，不但对膜的种类要求繁多，而且对膜的质量要求更加严格。

　　电阻蒸发镀已不能满足蒸镀某些金属和非金属的需要。电子束热源能获得远比电阻热源更大的能量密度，数值可达到104-109w/cm2，因此可以将膜材加热至3000-6000c。

　　这就为蒸发难熔金属和非金属材料如钨、钼、锗、SiO2、AI2O3等提供了较好的热源。而且由于被蒸镀的材料是放在水冷坩埚内，因而可避免容器材料的蒸发及容器材料与膜材之间的反应，这对提高膜的纯度是极为重要的。

　　另外，热量可直接加到膜材表面上，因此热效率高，热传导和热辐射损失少。

　　三、电弧加热蒸发镀：与电子束加热方式相类似的一种加热方式是电弧放电加热法。它也具有可以避免电阻加热材料或坩埚材料的污染，加热温度较高的特点，特别适用 于熔点高，同时具有一定导电性的难熔金属、石墨等的蒸发。

　　同时，这一方法所用的设备比电子束加热装置简单，因而是一种较为廉价的蒸发装置。

　　四、激光束蒸发镀：采用高功率密度脉冲激光对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，一般称为激光蒸镀

　　五、高频感应加热蒸发镀：利用感应加热原理把金属加热到蒸发温度。

　　将装有膜层材料的坩埚放在螺旋线圈的，在线圈中通以高频电流，可以使金属膜层材料产生电流将自身加热升温，直至蒸发。

　　感应加热蒸发源的特点：

　　1、蒸发速率大

　　2、蒸发源温度均匀稳定，不易产生铝滴飞溅现象

　　3、蒸发源一次装料，无须送丝机构，温度控制比较容易，操作简单

　　4、对膜材纯度要求略宽些。

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