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单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备—莱特莱德专业提供超纯水设备

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  • 产品类别:软化水设备
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  • 更新时间:2023-05-27 14:45:00
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单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备,半导体超纯水设备【电子超纯水工艺简介】电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产在制作过程中,往往需要使用极其纯净的超纯水

详情介绍

单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备,半导体超纯水设备

【电子超纯水工艺简介】
电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产在制作过程中,往往需要使用极其纯净的超纯水。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话,会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。在光伏行业电子管生产中,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,在显像管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,如其配制纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个晶体管需高纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液,如纯水中有金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致报废、次品。在晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%)会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。因此水的质量相当重要。采用反渗透加EDI的脱盐工艺,可以达到超纯水标准。单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备,半导体超纯水设备

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【应用】
微电子行业包括了电解电容器生产、电子管生产、显像管和阴极射线管生产、黑白显像管荧光屏生产、液晶显示器的生产、晶体管生产、集成电路生产、单晶硅、多晶硅生产、电子新材料生产等生产工艺,都需要工业超纯水。单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备,半导体超纯水设备

【典型工艺】
原水箱→原水泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→保安过滤器→一级反渗透→二级反渗透→纯水箱→纯水泵→TOC分解器→脱气膜→保安过滤器→EDI装置→纯水箱→纯水泵→抛光混床→膜过滤器→生产线用水点
先锋采用膜法工艺(反渗透→EDI→抛光混床),使超纯水制备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器等发生了一次革命,从此进入了一个无需再生化学品的时代。高科技膜法制备出来的工业纯水,其纯度可达到18MΩ·CM,且系统稳定,使用寿命长,且生产过程所产生的废水又可回用再生。
 随着时代和科技的发展,高效液相等精密分析仪器已普及至与分析测试有关的行业,对实验水质要求也愈来愈高。现今高效液相(HPLC) 都要求用户使用超纯水定出平坦而没有波峰的基线以保证分析测试的灵敏度,但有部分HPLC用户因资金或习惯等原因仍沿用瓶装饮用纯净水或蒸馏水进行实验,效果往往不很理想。

     瓶装纯净水和蒸馏水均只是普通纯水而不是高纯水,水中仍含有少量离子和有机物等杂质,用以配制液相和洗脱液不仅可能污堵昂贵的色谱柱,也影响HPLC定出平坦的基线。

     瓶装纯净水的纯化工艺,通常包括吸附、过滤、反渗透等,对颗粒性有机物的去除效果较好,但对微量有机物的去除却不能满足高灵敏度的HPLC实验之需求,并且,由于其包装通常多为PVC瓶,透氧率高,同时存在一定的化学溶出量,从而污染瓶中的纯净水,尤其是保存一段时间后,水质下降更多,因此表现在HPLC色谱图上,虽无特定吸收峰,但基线存在较严重的不稳干扰。

     有专家对重蒸水进行HPLC检测时发现,254nm和214nm在22-27分钟时都出现较强的吸收峰,这表明有疏水性较强的有机物污染,其原因应是蒸馏过程的共沸现象导致了某些挥发性有机物去除不。

     超纯水系统综合了水处理设备、双级反渗透设备、超纯化后处理等多种精密纯化工艺,产水水质指标接近Milli-Q水,并且超纯水即取即用,不会因储存引入污染,水质有保证,较之使用瓶装纯净水或蒸馏水,更能满足用户高精度仪器分析的需要。
   
(备注:纯度越高的水,越容易受到空气和容器等带来的外界污染,超纯水应即取即用。这样,在高精度的仪器分析中才能尽可能的排除外界干扰的影响,从而得到满意的结果。)

   超纯水系统去除有机物工艺介绍:

   (1)水质预处理器含有的活性炭滤芯可吸附滤除自来水中的80%的有机物杂质。
   (2)RO反渗透膜孔径小至0.001微米,对分子量大于300dalton的有机物去除,超纯水系统特殊设计的双级反渗透出水有机物含量可低至10-20ppb,满足Milli-Q等进口超纯水机的源水水质要求。单晶硅超纯水设备,二极管超纯水设备,半导体超纯水设备
   (3)超纯水系统特殊设计的紫外消解仪能产生波长185nm的紫外光在水中产生的羟基原子团,可迅速将水中残余的少量有机物氧化为二氧化碳,水和一些有机中间产物打断。
   (4)终端微滤器可滤除颗粒性有机物及树脂碎屑。

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