IGBT硅片的结构与功率MOSFET 的结构十分相似,主要差异是IGBT增加了P+ 基片和一个N+ 缓冲层(NPT-非穿通-IGBT技术没有增加这个部分)。如等效电路图所示(图1),其中一个MOSFET驱动两个双器件。基片的应用在管体的P+和 N+ 区之间创建了一个J1结。 当正栅偏压使栅下面反演P基区时,一个N沟道形成,同时出现一个电子流,并按照功率 MOSFET的方式产生一股电流。如果这个电子生的电压在范围内,那么,J1将处于正向偏压,一些空穴注入N-区内,并调整阴阳之间的电阻率,这种方式降低了功率导通的总损耗,并启动了第二个电荷流。后的结果是,在半导体层次内临时出现两种不同的电流拓扑:一个电子流(MOSFET 电流); 一个空穴电流(双)。
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